品名 功率（w） 發(fā)光長±5(mm) 燈全長±5(mm)
euv250w（*） 250 442 541
紫外線表面清洗
１ 紫外線表面清洗
紫外線表面清洗是近年來新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法，沒有污水，污氣產生。是高能環(huán)保型清洗殺菌方法。廣泛運用于lcd,pcb，點子，印刷，塑膠，玻璃，涂裝等領域。
紫外線清洗是是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除附著在材料表面的有機物質。經過廣清洗后的材料表面可以達到高清潔度。
其主要原理為紫外線燈發(fā)出的 185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數(shù)有機物的結合能量。由于大多數(shù)碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成例子，流利態(tài)院子，受激分子和中子等，這就是光敏作用。空氣中的氧分子在吸收了185nm波長的紫外光后，會產生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強的氧化性，可以將碳氫化合鍵切斷，生成水，二氧化碳等易揮發(fā)氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底清除物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。
清洗法有干洗和濕洗兩種。干洗有uv臭氧清洗，等離子清洗，離子清洗等。濕洗有水洗，堿清洗，酸清洗，液體噴射清洗等。我們日常所熟悉的濕式清洗有可以清洗掉較大范圍污染的優(yōu)點。但是也會有清洗不掉的污染。同時由于清洗的溶劑會在被清洗物表面殘留，因此對于高精密世界來說也是個污染。
與此相反uv紫外線清洗雖然不能清洗掉大范圍的污染，卻可以清洗到各個角落的就是光洗凈技術（以下簡稱uv臭氧清洗）。在納米技術世界里，我們雖然看不到有機性污染，但是有機污染在表面形成膜（軟接著層）如果在這層膜上印刷的話，就會出現(xiàn)鮮度惡化以及針孔等障礙。uv臭氧清洗可以去除的污染有有機化合物以及含有油脂的污染等。
2　二次污染的注意
玻璃表面的有機性污染膜厚度在單分子層以下時是非常清潔的表面狀態(tài)。即便是在實驗室或這是無菌室里的大氣中也會有微量的揮發(fā)性有機化合物或者硫化合物，將洗凈玻璃放置于這種環(huán)境下也會被這些蒸汽污染。高度清洗過后的表面接觸角會在30分到1小時內恢復到20度。因此我們認為超高清潔玻璃不易長時間保存。
3 可以將粒子極限清洗的清洗工藝
uv臭氧清洗和濕式清洗的結合
uv臭氧清洗是使有機性污染膜清洗到單分子層以下的高清洗技術，如下圖所示在完成清洗階段使用uv臭氧清洗技術。但是uv臭氧清洗對于粒子沒有效果。同時濕式清洗不能完全清除有機性污染，會保留幾個分子層厚度的油膜。被這些油墨所吸收的粒子在沖洗過程中很難被全部清洗掉。uv臭氧清洗是完成階段的清洗，在生產過程中我們發(fā)現(xiàn)了如下圖所示uv臭氧清洗后使用例如溫水沖洗的清洗工藝。uv臭氧清洗如圖所示油膜基本上都可以清除。在此之后使用純水沖洗可以將沒有油膜保護的粒子很容易的沖洗掉，得到沒有粒子，沒有有機污染物的高清潔面。
這種技術方法不但在液晶顯示裝置的現(xiàn)場使用，在原版曝光和分光板的制造工程中也被大量使用。

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SEN特殊光源株式會社
陳科
81668455111
日本大阪府豊中市勝部3-3-18

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